Le 1er décembre 2007, Sharp a inauguré la construction de son nouveau « parc industriel du XXIe siècle » à Sakai dans la préfecture d’Osaka au Japon.

Dans cet important site de production industriel sera déployé le savoir-faire technologique de Sharp en matière de couches minces avec la fabrication de dalles LCD et de panneaux solaires photovoltaïques.

Ces deux gammes de produits phares du Groupe ont en effet des techniques de fabrication très similaires, faisant appel à des procédés de dépôts de matière première en couches minces sur des substrats de verre. De plus, ce site accueillera les usines des fournisseurs de matériaux et d’équipements nécessaires à la fabrication de ces 2 lignes de produits de Sharp.

Ce modèle d’intégration verticale du processus de fabrication permet un gain de productivité lié à une utilisation combinée des matériaux et des machines et favorise également les innovations techniques grâce à une collaboration étroite entre les ingénieurs de Sharp et ceux de leurs principaux fabricants de matériaux et d’équipement.

En outre, ce regroupement géographique permet une réduction sensible de la pollution liée au transport des fournitures. La capacité annuelle de production de cellules photovoltaïques en couches minces de ce site Sharp sera de 1 000 MW. La production démarrera en mars 2010.

Mieux respecter l’environnement

Les cellules photovoltaïques en couches minces sont fabriquées en déposant de fines couches de silicium sur un substrat de verre. Cette structure permet une réduction drastique de la quantité de matière première utilisée soit seulement 1% de la quantité de silicium entrant dans la composition des modules photovoltaïques polycristallins et monocristallins classiques. Ce procédé de fabrication de cellules solaires permet ainsi de réduire les coûts de fabrication mais aussi de réduire les temps de production.

Par rapport aux modules classiques, les modules photovoltaïques à base de silicium en couches minces présentent également l’avantage de conserver un bon niveau de production d’électricité lorsque la luminosité est faible ou lorsque la température ambiante est élevée. Cela leur permet donc de fournir un bon productible dans les régions moins ensoleillées malgré un rendement plus faible.

En septembre 2005, Sharp avait lancé la production en masse de cellules solaires en couches minces avec une structure en jonction tandem (une couche de silicium amorphe et une couche de silicium microcristallin). Sharp développe aujourd’hui la production en masse de cellules solaires en couches minces avec une structure en triple jonction qui comprend deux couches de silicium amorphe et une couche de silicium microcristallin. La triple-jonction permet ainsi d’obtenir des modules possédant un rendement de conversion de 10% (contre 8,6% pour les modules incorporant des cellules tandem).

Vers de nouvelles applications des panneaux solaires

Les utilisations de panneaux solaires en couches minces continuent de se développer et d’évoluer vers de nouvelles applications. Ils sont ainsi adoptés comme matériaux architecturaux offrant de remarquables caractéristiques de design. Les modèles bi-verre par exemple (« see through ») pour des utilisations en verrière ou en murs-rideaux permettent à la lumière de pénétrer de façon très agréable dans le bâtiment.

Les modèles Lumiwall avec des LEDs intégrés génèrent, quant à eux, de l’électricité le jour pour fournir de la lumière la nuit. Dans le futur, on peut espérer leur intégration dans une gamme encore plus large de nouvelles applications incluant des fenêtres, des brises soleil, etc….

Pour anticiper ces nouveaux besoins, Sharp Corporation va accroître la capacité production de cellules solaires en couches minces de son usine japonaise de Katsuragi (Préfecture de Nara) qui va passer de 15 MW à 160 MW d’ici octobre 2008.